稀土抛光粉的种类及应用
根据稀土抛光粉的主要组成Ce02的含量可将饰基抛光粉分为三大类。
第一类是低饰抛光粉，其稀土氧化物含量约为40%-70%,饰含量约为30%-65%,其余一般为La20sSOs, Nd20sSOs, Pr60mS0:等碱性无水硫酸盐或者是LaOF,NdOF, PrOF等碱性氟化物，以及铁、石英等杂质，粒度1μm-4μm。低饰稀土抛光粉的价格相对较便宜，但切削力高，广泛应用于阴极射线管、光学眼镜和平板玻璃的抛光。
第二类是中饰抛光粉，其稀土氧化物含量约为80%- 90% ,饰含量约为40%一80%，其余一般为La20sSOs, Nd20sSOs, Pr60mS0等碱性无水硫酸盐或者碱性氟化物，粒度O.2μm-4μm。中饰抛光粉的特点是氧化饰含量较高，粒径均匀等，其价格相对较高，广泛用于光学玻璃的光掩膜和液晶显示屏的抛光。
第三类是高饰抛光 粉，其稀土氧化物含量大于99%，含氧化饰大于80%，优点是抛光时间较长、纯度高，粉体大小均匀，因而抛出的玻璃表面均一、平整度好、无缺陷、无污染，应用于精密光学仪器、光学镜头、半导体元件等高性能元件的抛光。
饰基稀土抛光粉的抛光能力与氧化饰的含量有一定的关系，但是并非氧化饰的含量越高，其抛光能力就越大。抛光粉中当Ce02的含量大于40%时，其抛光效果会显著增加，当Ce02的含量增至80%时，其抛光效率只比氧化饰含量40%的抛光粉提高15%左右。高饰稀土抛光粉由于其应用于高性能元件的抛光，因此对氧化饰的含量要求较高。
随着科技的不断发展，现代制造业对材料表面的平面化技术要求逐步提高，新型高效抛光粉的研制受到国内外学者的研究广泛关注。目前的研究主要是新型抛光材料的制备和生产，以用于不同的待抛光工件和抛光技术。我国从1958年开始研究稀土抛光粉，近十年来己成为稀土抛光粉的主要生产及使用国家，从普通玻璃制造行业到到电子行业都可见到稀土抛光粉的身影，稀土抛光粉的生产厂家也开始不断提高产品的质量及研发新品种，以满足市场的需求。
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