历史上，人们曾用较为坚硬的碎石或天然砂粒将石器磨平抛光，以便石器更加实用和美观。随着陶器等产品的出现，人们更加注重对其表面的研磨和抛光，但是过程仍停留在原始的手工劳动。到中世纪末玻璃行业的兴起时，欧洲开始生产大块镜子时，对玻璃的研磨和抛光工艺得以快速发展，那时的玻璃研磨工艺，主要是在机床上进行。工业上逐渐将玻璃的冷加工划分为粗磨、细磨和抛光三个阶段。对玻璃进行化学机械抛光，可有效的提高玻璃工件表面质量，从而满足目前显示器玻璃，触摸屏等精密玻璃行业的抛光。
关于对玻璃抛光的机理，目前还没有形成一个完全的统一理论，但是学术界也己有较多该方面的报道，主要有以下几点 :
1，有关机械作用的学说，在研磨过程中抛光是由于研磨设备之间的作用产生的;
2，流变作用的学说(物理化学的学说)，即摩擦使玻璃的表面塑性变形，或是摩擦产生的热软化至玻璃表面熔融而 流动，抛光是玻璃的表面分子经过重新分布最后形成平整表面的过程;
3，机械、物理化学的学说，即玻璃抛光的过程是机械和物理化学作用的共同过程;
4，化学作用学说，玻璃抛光是水、抛光材料、抛光垫和玻璃几者之间的综合化学作用的结果。目前，学术界比较 同意的一种意见是:抛光过程是机械、物理化学和化学的综合作用，其中机械的作用是基本，化学的作用是重 点，研磨过程中同时存在着流变现象。
磨抛过程中玻璃的表面会形成软质层并与抛光粉中的抛光颗粒、抛光垫发生相互作用，该软质层的成分、厚度、硬度、以及摩擦发生的摩擦热都将直接参与研磨并影响材料的去除速率，软质层的成分、性质与玻璃的组成、水解的pH值及水解过程的参数紧密相关。
提及抛光材料在磨抛玻璃时，首先是机械作用，去除玻璃表面的凹凸层。即此过程中，玻璃的表面会不断露出新的表面，新的表面极易会发生水解，在玻璃的表面会形成一层硅胶凝胶层，不溶于水，此硅胶薄膜会对玻璃有保护作用，并阻碍玻璃的进一步水解，硅胶薄膜的厚度一般在1. Snm}7.Onm，且在有COa存在的情况下，会发生如下(1.2)和(1.3)的水解反应:
Na2SiOs+2H20=2NaOH+HZSiOs(1.2)
2NaOH+COa=Na2COs+HaO(1.3)
此时，抛光粉中Ce0:颗粒会去掉硅胶层，使玻璃形成光滑的表面，同时在机械的作用下，伴随着抛光粉颗粒的破碎。
氧化铈稀土抛光粉稀土抛光粉的制备方法
目前，我国生产氧化铈稀土抛光粉的原料有很多种，不同的原料对应不同的制备工艺。从制备工艺来看，可以分为四大类:一是稀土矿物原料焙烧法;二是以稀土可溶性盐为原料的沉淀一焙烧法;三是以沉淀剂制备前驱体的沉淀一焙烧法;四是纳米氧化饰的制备法。
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